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二次电子发射理论与应用书籍详细信息

  • ISBN:9787576314144
  • 作者:暂无作者
  • 出版社:暂无出版社
  • 出版时间:暂无出版时间
  • 页数:248
  • 价格:暂无价格
  • 纸张:暂无纸张
  • 装帧:暂无装帧
  • 开本:暂无开本
  • 语言:未知
  • 丛书:暂无丛书
  • TAG:暂无
  • 豆瓣评分:暂无豆瓣评分

内容简介:

本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。本书共分为六章,其中,第1章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第2章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。第3童介绍了常用的二次电子发射去面调控技术。列举了几种用干抽制二次电子发射的去面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第4章介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电子发射在带电状态下的动态特性。第5章简要叙述了电子袭击对材料的影响。第6章讲述了二次电子发射在微波部件微放电和电子显微成像领域的应用,并展开了相关分析。 本书内容基础性,探索性强,涉及了我国航天器大功率二次电子倍增相关基础科学制域的重点问题。本书的出版可为我国重大工程项目的研发、设计,以及多领城学科的发展提供参考。同时,也可以作为相关专业本科生和研究生的参考教材。

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其它内容:

书籍介绍

本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。本书共分为六章,其中,第1章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第2章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。第3童介绍了常用的二次电子发射去面调控技术。列举了几种用干抽制二次电子发射的去面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第4章介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电子发射在带电状态下的动态特性。第5章简要叙述了电子袭击对材料的影响。第6章讲述了二次电子发射在微波部件微放电和电子显微成像领域的应用,并展开了相关分析。 本书内容基础性,探索性强,涉及了我国航天器大功率二次电子倍增相关基础科学制域的重点问题。本书的出版可为我国重大工程项目的研发、设计,以及多领城学科的发展提供参考。同时,也可以作为相关专业本科生和研究生的参考教材。

书籍真实打分

故事情节:3分

人物塑造:3分

主题深度:7分

文字风格:3分

语言运用:7分

文笔流畅:7分

思想传递:5分

知识深度:7分

知识广度:4分

实用性:6分

章节划分:8分

结构布局:7分

新颖与独特:3分

情感共鸣:5分

引人入胜:5分

现实相关:9分

沉浸感:3分

事实准确性:7分

文化贡献:4分

网站评分

书籍多样性:7分

书籍信息完全性:4分

网站更新速度:6分

使用便利性:3分

书籍清晰度:6分

书籍格式兼容性:5分

是否包含广告:5分

加载速度:4分

安全性:4分

稳定性:8分

搜索功能:8分

下载便捷性:6分

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网友 国***芳:五星好评

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网友 焦***山:不错。。。。。

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